表面清洁：
在这个过程中，等离子体被用来有效地去除材料表面的污染物。由于其有效性和效率，它是许多行业中流行的清洁方法。等离子体中的高活性离子和分子可以分解有机污染物和残留物，从而产生干净、纯净的表面。 表面活化：
在这个过程中，等离子体处理是用来增加材料的表面能量，以提高附着力。这在材料的粘接、涂漆和涂层中特别有用，增强附着力可以提高最终产品的质量和耐用性。 表面涂层：
在这种方法中，等离子体被用来涂覆可以保护、增强或修饰材料表面特性的涂层。它确保了均匀的涂层，并可用于各种目的，包括提高耐磨性，耐腐蚀性和环境影响。 表面刻蚀：
这是一个从晶圆表面去除选择性材料的过程，留下明确定义的图案，这些图案是半导体设备功能不可或缺的一部分。等离子体处理可以进行高度的控制，能够以极高的精度创建复杂的图案和结构。这是一种高效的工艺，对于实现半导体制造所需的清洁度和模式分辨率至关重要。使用不同气体，以及对工艺参数精确控制，可以对材料表面特性进行大范围的修改。